詳情介紹
設備用途
本設備廣泛應用于激光透明陶瓷、閃爍透明陶瓷、半導體材料、鎢鉬合金等在高溫、高真空條件下進行燒結處理。
結構說明
一、和同類產品相比有以下優(yōu)勢：1、結構新，外形美觀。 2、加熱速度快，節(jié)能。3、真空度高、在同類產品中處于首先地位。4、質量可靠、所用材質為優(yōu)良材料。5、進口控溫器、能控制水溫在5℃至35℃/換熱速度快，并有安全警報。6、面板顯示及電器連鎖：電流、電壓、溫度、真空度、水壓。7、電器連鎖及聲光報警。并且可根據客戶工藝進行設計定制。8、性價比高，可根據客戶需求來按期完工。
二、設備主要技術參數 本設備溫度范圍：室溫至2000℃其它參數（工作尺寸、真空度等）可根據客戶的工藝及要求來制作。
三、結果說明：此設備由爐殼、爐蓋、爐底、爐架、真空系統(tǒng)、發(fā)熱體及隔熱屏、電氣控制系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、變壓器及連接銅排、充放氣系統(tǒng)組成。爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，爐殼溫度不超過50℃。爐子低溫采用熱電偶測溫，高溫時采用紅外測溫儀測溫。真空系統(tǒng)采用直聯(lián)泵和分子泵。電器元件均作為名牌產品，所用程序儀表，客戶可自行設定程序。
型號與主要參數
產品詢價
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